MEニュース：7月30日（UTC+8）、台湾積体電路製造（TSMC）の元エンジニア4人、陳力銘、呉秉駿、戈一平、陳韋傑は、2ナノメートルなどの機密データを盗み出し漏洩した罪で、台湾知的財産及び商業法院の1審で、陳力銘に懲役10年、呉秉駿に懲役3年、戈一平に懲役2年、陳韋傑に懲役6年の判決が下された。陳力銘と陳韋傑は上訴したが、台湾最高法院は30日、上訴を棄却し、両名は直ちに収監される。 報道によると、呉秉駿と戈一平は1審判決後、上訴しなかったほか、検察側も上訴しなかったため、両名の判決は確定した。陳力銘はかつてTSMCの12工場で良率エンジニアを務めており、退職後はTSMCの半導体製造装置サプライヤーである台湾「東京威力」のマーケティング部門に転職した。彼は自身の業績を上げるため、東京威力がTSMCの先進プロセスのより多くの装置サプライヤーとして選ばれるよう働きかけ、呉氏、戈氏、陳氏ら元同僚との旧交を活用し、3人にTSMCの機密ファイルを撮影するよう依頼した。4人のエンジニアは、在職中の関与したエンジニアの業務用ノートパソコンを通じて機密ファイルを開き、陳力銘に撮影させたり、撮影したデータを陳に送信したりした。（環球網）（出典：ODAILY）
TSMCのエンジニアが2nmデータの盗難で有罪判決
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概要
7月30日（UTC+8）、元TSMCエンジニア4人が2nm機密データの窃取で有罪判決を受けた。陳立明、呉炳軍、葛一平、陳偉傑はそれぞれ10年、3年、2年、6年の刑を言い渡された。陳立明と陳偉傑は上訴を却下され、直ちに収監される。元収率エンジニアの陳立明は半導体サプライヤーに転職し、元同僚を利用してTSMCのファイルを撮影した。リスクオン資産は、流動性および暗号資産市場がマクロ要因に敏感であるため、反応が分かれた。
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