韓國媒體報導，三星計劃將其正在平澤建設的新晶圓廠樓層數，從原計劃的兩層增加至三層。 更具體地說，正在重新設計為三層設施的是平澤P5廠1號和2號，這兩座廠房合計將成為單一地點世界上最大的半導體製造設施。工程最早於2022年開工，預計於2030年完工。在施工高峰期，該 site 曾聘請高達50,000名工人。 直到最近剛投入運營的三星電子平澤校園P4廠，每棟建築均採用雙廠配置，設有四個無塵室。然而，若 revised 計畫獲得批准，P5將採用三廠配置，可容納最多六個無塵室。隨著無塵室數量增加50%，產能也預計至少提升50%。 未來三星電子和SK hynix在規劃中的龍仁國家及綜合工業區所建造的半導體晶圓廠，也預計將採用此三廠配置。