🚨 中國在先進技術製造方面邁出關鍵一步 🚨 上海愛盛那公司領先開發沉浸式 DUV 光刻機。 旨在減少對外國供應商的依賴。 預計首台可行的光刻機，具備 7 nm 工藝能力，將於 2032 至 2038 年間推出。 儘管取得進展，中國仍面臨重大技術障礙。 關鍵部件，如雷射和光學元件，仍依賴外部供應。