المنشورات
avatar

مراجعة أسبوعية: تظل ASML العقدة الحرجة في صناعة الذكاء الاصطناعي. تقنية EUV Lithography متاحة عالميًا لدى مورد واحد فقط - و تستهلك HBM حتى ثلاثة أضعاف مساحة الشريحة مقارنة بـ DRAM العادي. تتطلب غرف التنظيف الجديدة سنوات. نقص كنموذج عمل. #ASML #KI #ChipMangel

هذا المحتوى لأغراض إعلامية وتعليمية فقط. قد يتضمن تحليلات من جهات خارجية، أو محتوى دعائي، أو مواد ترويجية قد يحصل منشئها على مقابل مادي. لا يُعد أي شيء في هذه النشرة نصيحة استثمارية أو ضمانًا للعوائد. أنت وحدك المسؤول عن قراراتك الاستثمارية. ابحث دائمًا بنفسك وتوخَّ الحذر قبل التداول. لا نضمن دقة معلومات الجهات الخارجية، ولا نتحمل مسؤولية أي خسائر قد تتكبدها. الأداء السابق لا يُشير إلى النتائج المستقبلية. يُرجى مراجعة شروط المنتدى وبيان الإفصاح عن المخاطر للاطلاع على التفاصيل.

avatarانشر ردك

التعليق